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俄羅斯《消息報》8月7日文章，原題：重大成就：中國在微芯片競爭中逐漸趕上據中國媒體報道，上海微電子有望年底前推出28納米浸沒式光刻機。盡管中國的新光刻機仍將落后于最先進的同類產品，但由于外國供應商的限制越來越大，中國人在該領域的快速進步可以說是適逢其時。

2022年10月7日，美國政府發(fā)布半導體出口管制新規(guī)，美國對中國的制裁是在中國半導體行業(yè)取得突破的背景下實施的。據了解，2022年夏天，中芯國際已經掌握7納米芯片的生產工藝，這讓中國成為全球半導體行業(yè)的領軍者之一。

但中國目前的主要問題不是芯片本身，而是生產芯片的工具，它更具壟斷性，其關鍵是光刻機。極紫外線光刻機生產技術僅由荷蘭阿斯麥公司（ASML）掌握，沒有它，就不可能生產最先進、最現代的芯片。

美國正試圖完成雙重任務：遲滯中國半導體行業(yè)發(fā)展，同時提升自己在全球市場上的地位。但現在美國在這一領域遠遠落后了，美國芯片產量僅占全球的約12%。為此，拜登政府通過了《芯片與科學法》，其中包括提供390億美元用于鼓勵在美國境內生產芯片，130億美元用于芯片研發(fā)。

只有未來才能證明這場“芯片戰(zhàn)”的結果。但在目前，美國的制裁似乎并沒有給中國產業(yè)造成無法接受的損害。中國企業(yè)已經儲備了足夠的設備和材料，可以維持一段時間。中國解決“卡脖子”問題將是一個緩慢的過程，但肯定會解決。

此外，荷蘭人和日本人并不急于對中國采取與美國人相同的嚴厲措施，因為失去中國市場將對它們造成巨大打擊。還有人認為，限制向中國提供半導體設備只會迫使中國加倍努力建立自己的生產鏈。中國即使現在沒有完整的生產鏈，也與之非常接近了。在光刻機領域取得新突破后，中國生產的芯片將遠遠超過所需要的標準。（作者德米特里·米古諾夫，柳玉鵬譯）

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